等离子清洗机作为一种微观固体表面的处理设设备,是一种全新的表面处理方案。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁等目的。
主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。
该系列等离子清洗机内置高纯石英仓体,采用了*的电极结构设计和固态电源技术,使其有效容积增大,不同真空 气体环境下容易匹配,且控制频率稳定。真空仓门有观察窗,可直观物体的处理过程,其射频电源与控制都组装在一个机箱内,即减少了空间的占用,更便于操作和放置,同时与大型清洗机相比较,从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作,特别适用科学实验 样品清洗和教学。
设备型号
KT-Z2DQX
KT-S2DQX
KT-Z5DQX
供电电源
AC220V(AC110V可选)
工作电流
整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)
射频电源功率
1000 W
150 W
300 W
射频频率
40 KHz
13.56 MHz
耦合方式
电容耦合
真空度
≤50 Pa
腔体材质
高纯石英
腔体容积
2L(内径110 mm×深度220 mm)
5L(内径160 mm×深度310 mm)
观察窗内径
Φ50
Φ70
气体流量
10—100 ml/min(其他量程可选)
过程控制
过程自动控制
过程手动控制
清洗时间
自动开关
开盖方式
铰链侧开式法兰
外形尺寸
150*500*250 mm
450*460*370 mm
530*580*420 mm
重量
20 kg
35 kg
40 kg
真空室温度
小于65°C
冷却方式
强制风冷
其他推荐产品
首页| 关于我们| 联系我们| 友情链接| 广告服务| 会员服务| 付款方式| 意见反馈| 法律声明| 服务条款
等离子清洗机作为一种微观固体表面的处理设设备,是一种全新的表面处理方案。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁等目的。
主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。
该系列等离子清洗机内置高纯石英仓体,采用了*的电极结构设计和固态电源技术,使其有效容积增大,不同真空 气体环境下容易匹配,且控制频率稳定。真空仓门有观察窗,可直观物体的处理过程,其射频电源与控制都组装在一个机箱内,即减少了空间的占用,更便于操作和放置,同时与大型清洗机相比较,从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作,特别适用科学实验 样品清洗和教学。
设备型号
KT-Z2DQX
KT-S2DQX
KT-Z5DQX
供电电源
AC220V(AC110V可选)
工作电流
整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)
射频电源功率
1000 W
150 W
300 W
射频频率
40 KHz
13.56 MHz
耦合方式
电容耦合
真空度
≤50 Pa
腔体材质
高纯石英
腔体容积
2L(内径110 mm×深度220 mm)
2L(内径110 mm×深度220 mm)
5L(内径160 mm×深度310 mm)
观察窗内径
Φ50
Φ50
Φ70
气体流量
10—100 ml/min(其他量程可选)
过程控制
过程自动控制
过程手动控制
过程自动控制
清洗时间
自动开关
开盖方式
铰链侧开式法兰
外形尺寸
150*500*250 mm
450*460*370 mm
530*580*420 mm
重量
20 kg
35 kg
40 kg
真空室温度
小于65°C
冷却方式
强制风冷