KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率,可对大部分金属进行均匀蒸发沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
技术参数
控制方式
7寸人机界面手动自动模式切换控制
加热方式
数字式功率调整器
镀膜功能
0-999秒,5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
*功率
≤1200 W
*输出电压电流
电压≤12 V,电流≤120 A
真空度
机械泵≤5 Pa(5分钟),分子泵≤10^-3 Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体 Φ160 mmx160 mm
样品台
可旋转Φ62 mm,(*可安装Φ50基底)
样品台转速
8转/分钟
样品蒸发源调节距离
70-140 mm
蒸发温度调节
≤1800 ℃
支持蒸发坩埚类型
钨丝篮、带坩埚钨丝篮、钨舟、炭绳
预留真空接口
KF25抽气口,KF16真空计接口,KF16放气口,6mm卡套进气口
可选配扩展
机械真空泵(可抽真空5分钟<5 Pa)
数显真空计(测量范围大气压到0.1 Pa)
分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3 Pa)
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KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率,可对大部分金属进行均匀蒸发沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
技术参数
控制方式
7寸人机界面手动自动模式切换控制
加热方式
数字式功率调整器
镀膜功能
0-999秒,5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
*功率
≤1200 W
*输出电压电流
电压≤12 V,电流≤120 A
真空度
机械泵≤5 Pa(5分钟),分子泵≤10^-3 Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体 Φ160 mmx160 mm
样品台
可旋转Φ62 mm,(*可安装Φ50基底)
样品台转速
8转/分钟
样品蒸发源调节距离
70-140 mm
蒸发温度调节
≤1800 ℃
支持蒸发坩埚类型
钨丝篮、带坩埚钨丝篮、钨舟、炭绳
预留真空接口
KF25抽气口,KF16真空计接口,KF16放气口,6mm卡套进气口
可选配扩展
机械真空泵(可抽真空5分钟<5 Pa)
数显真空计(测量范围大气压到0.1 Pa)
分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3 Pa)