主要特点
KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压电流反馈样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。
技术参数
控制方式
7寸人机界面手动/自动模式切换控制
溅射电源
直流溅射电源
镀膜功能
0-999秒,5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
*功率
≤1000 W
*输出电压电流
电压≤1000 V,电流≤1 A
极限真空
机械泵≤5 Pa(5分钟),分子泵≤5*10^-3 Pa
溅射真空
≤10 Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体 Φ160 mm×170 mm
样品台
可旋转Φ62 mm,(*可安装Φ50 mm基底)
样品台转速
8转/分钟
样品溅射源调节距离
40-105 mm
真空测量
皮拉尼真空计(已安装测量范围10E5 Pa~1E-1 Pa)
预留真空接口
KF25抽气口,KF16放气口,6mm卡套进气口
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主要特点
KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压电流反馈样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜。
技术参数
控制方式
7寸人机界面手动/自动模式切换控制
溅射电源
直流溅射电源
镀膜功能
0-999秒,5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
*功率
≤1000 W
*输出电压电流
电压≤1000 V,电流≤1 A
极限真空
机械泵≤5 Pa(5分钟),分子泵≤5*10^-3 Pa
溅射真空
≤10 Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体 Φ160 mm×170 mm
样品台
可旋转Φ62 mm,(*可安装Φ50 mm基底)
样品台转速
8转/分钟
样品溅射源调节距离
40-105 mm
真空测量
皮拉尼真空计(已安装测量范围10E5 Pa~1E-1 Pa)
预留真空接口
KF25抽气口,KF16放气口,6mm卡套进气口