高分子吸波隐身材料研磨分散机，高分子吸波隐身材料生产设备，高分子高分子吸波材料研磨分散机，高分子高分子吸波材料生产设备，高分子吸波涂料研磨分散机，高分子吸波涂料生产设备

高分子是一种二维材料，具有优异的导电性和导热性。由于高分子是纳米级，具有新的性能。根据理论推导，高分子会吸收πα≈2.3%的白光（α指精细结构场数）。目前，高分子作为电磁干扰吸波材料在都处于起步阶段。而相关研究表明，高分子所具备的片貌相对于棒状状形或球状对材料的吸波性更加有利。

高分子吸波隐身材料，高分子高分子吸波材料，高分子吸波涂料，产品达到到意想不到的屏蔽效果。吸波材料，指能吸收投射到它表面的电磁波能量的一类材料。在本产品，除要求吸波材料在较宽频带内对电磁波具有高的吸收率外，还要求它具有质量轻、耐温、耐湿抗腐蚀等性能。吸波材料性能优势PVA/高分子： 60.1 db （x波段）

吸波材料用途

电磁吸波材料适用于手机、FPC、电脑、IC芯片、LCD/数
 
码摄像机主板，PDP/数码相机等各种排线。

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前国x设备转速的4-5倍。

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个总线重要因素，高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得细微悬浮液是总线重要的

研磨分散机的优势：

更稳定 采用优化设计理念，将先x的技术与创x的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证.

新结构 通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，高线速度的吸料式叶轮提供强切割力

更可靠 采用整体式机械密封，总线大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷.

新技术 采用国 x先x的受控切割技术，将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及细湿法粉碎的要求.