DWL2000和DWL4000 激光光刻系统是快速及高灵活性的高分辨率图型发生器,用于制作掩膜版和可直接于产品上进行激光直写,
写入面积高达200x200 mm²,与400x400 mm² 。在二维曝光技术表现*,*低分辨率为500nm,可选配自动加载系统,
除了高分辨率的二維图型之外,还提供灰度曝光模式,可在厚光刻胶中创建复杂的2.5D结构。
产业应用:MEMS、BioMEMS,微光学、集成电路(ASIC)、微流体、传感器。
关于我们 - Stella International
Stella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司,共同为客户带来*的综合应用效能,同时建立紧密的合作伙伴关系。
为了服务客户更广泛多元的应用领域,Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心,以海德堡原厂伙伴技术支援,提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究,
这些年来已服务许多的国内大学,研究所与企业前期研发单位。
介绍
德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备 HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM
德国海德堡设备(Heidelberg Instruments),创始于1984年,在激光直写设备的发展和设计上,一直是*的。多年以来,系统设备持续地改良、在各种应用上客制化。
应用范围包括:微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。
销售横跨欧洲、美国、亚洲等过50几个*、700个以上销售据点,用于研发、快速原型制作和工业生产系统,是企业研究和发展的*伙伴。
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DWL2000/ DWL4000
高灵活度与高精度光刻的解决方案
High Resolution Pattern Generators
高灵活度与高精度光刻的解决方案
DWL2000和DWL4000 激光光刻系统是快速及高灵活性的高分辨率图型发生器,用于制作掩膜版和可直接于产品上进行激光直写,
写入面积高达200x200 mm²,与400x400 mm² 。在二维曝光技术表现*,*低分辨率为500nm,可选配自动加载系统,
除了高分辨率的二維图型之外,还提供灰度曝光模式,可在厚光刻胶中创建复杂的2.5D结构。
产业应用:MEMS、BioMEMS,微光学、集成电路(ASIC)、微流体、传感器。
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Stella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司,共同为客户带来*的综合应用效能,同时建立紧密的合作伙伴关系。
为了服务客户更广泛多元的应用领域,Stella International于 2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心,以海德堡原厂伙伴技术支援,提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究,
这些年来已服务许多的国内大学,研究所与企业前期研发单位。
介绍
德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备
HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM
德国海德堡设备(Heidelberg Instruments),创始于1984年,在激光直写设备的发展和设计上,一直是*的。多年以来,系统设备持续地改良、在各种应用上客制化。
应用范围包括:微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。
销售横跨欧洲、美国、亚洲等过50几个*、700个以上销售据点,用于研发、快速原型制作和工业生产系统,是企业研究和发展的*伙伴。