小型钨舟蒸镀仪

价格
¥38,600.00

型号
KT--Z1650CVD

品牌
郑科探

所在地
郑州市

更新时间
2024-07-18 09:44:49

浏览次数

    KTZ1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压,电流反馈,样品台旋转,样品高度调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

    小型钨舟蒸镀仪KT-Z1650CVD

    是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。

    正空蒸发镀膜包括以下基本过程:(1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。(2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。

    (3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远

    低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。


    SHAPE * MERGEFORMAT

    编辑

    以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图

    说明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771737832260197.png

    原样品没有镀膜

    说明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771732996198687.png

    115A 100秒 机械泵

    说明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771732840196319.png

    115A 100秒 分子泵抽12分钟

    说明: https://img71.chem17.com/9/20220418/637858771732684194803.png

    115A 120秒 分子泵抽20分钟

    真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色

    技术参数

    控制方式

    7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

    加热方式

    数字式功率调整器

    镀膜功能

    0-9995段可变换功率及挡板位和样品速度程序

    功率

    ≤1200W

    输出电压电流

    电压≤12V 电流≤120A

    真空度

    机械泵 ≤5Pa5分钟) 分子泵≤10^-3Pa

    挡板类型

    电控

    真空腔室

    石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm

    样品台

    可旋转φ62 (可安装φ50基底)

    样品台转速

    8/分钟

    样品蒸发源调节距离

    70-140mm

    蒸发温度调节

    ≤1800℃

    支持蒸发坩埚类型

    钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳

    预留真空接口

    KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口

    可选配扩展

    机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa

    数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa

    分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa

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