小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。
正空蒸发镀膜包括以下基本过程:(1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。(2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
(3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。
SHAPE * MERGEFORMAT
编辑
以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图
原样品没有镀膜
115A 100秒 机械泵
115A 100秒 分子泵抽12分钟
115A 120秒 分子泵抽20分钟
真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色
技术参数
控制方式 |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
加热方式 |
数字式功率调整器 |
镀膜功能 |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 |
≤1200W |
输出电压电流 |
电压≤12V 电流≤120A |
真空度 |
机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤10^-3Pa |
挡板类型 |
电控 |
真空腔室 |
石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm |
样品台 |
可旋转φ62 (可安装φ50基底) |
样品台转速 |
8转/分钟 |
样品蒸发源调节距离 |
70-140mm |
蒸发温度调节 |
≤1800℃ |
支持蒸发坩埚类型 |
钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 |
预留真空接口 |
KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
可选配扩展 |
机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa) 数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa) 分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa) |
其他推荐产品
KT—Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压,电流反馈,样品台旋转,样品高度调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。