薄膜开关在线式等离子表面处理机：诚峰智造

真空式等离子处理系统CRF-VPO-2L-S

名称（Name）

真空式等离子处理系统

型号（Model）

CRF-VPO-2L-S

控制系统（Control system）

PLC+触摸屏

电源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 3kw

中频电源功率（RF Power）

1000W/40KHz

容量（Volume ）

10L(Option)

层数（Electrode of plies ）

2(Option)

腔体规格（Area）

220(W)*230(D)*230(H)

气体通道（Gas）

两路工作气体可选：Ar、N2、CF4、O2

产品概述
设备参数
产品特点
大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，*的控制设备运行；
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求；保养维修成本低，便于客户成本控制；
高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和*的技术支持。
 
应用范围
真空等离子清洗机适用于印制线路板行业，半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业：高频板表面活化，多层板表面清洁、去钻污、软板、软硬结合板表面清洁、去钻污，软板补强前活化。半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。

伴随着航空工业的发展，涡轮发动机燃气进口温度和效率都在不断提高，而现有的高温合金和冷却技术已经不能满足这一需求。因此，等离子体喷涂热障涂层在高温合金表面的应用就显得尤为重要，而且热障涂层在高温下工作已有很长的历史。
抗氧化能力是评价等离子体喷涂热障涂层性能的重要指标。采用称量法和氧化层厚度法对等离子体喷涂热障涂层的高温氧化行为进行了热力学和动力学分析。并利用X射线衍射、电子探针等分析手段，对样品的成分分布及结构变化进行了研究。根据试验结果探讨了热障涂层的氧化机理。研究了大气等离子体机喷涂制备的ZrO2热障涂层，分别采用MgO和Y2O3作稳定剂，对其静态氧化性能进行了测试。研究发现，两种热障涂层的静态氧化动力学均遵循抛物线规律，气孔率随氧化温度升高而降低，单斜相含量增加。虽然MgO的加入量比Y2O3高，但Y2O3稳定的ZrO2热障涂层具有更好的热稳定性。而在Y2O3稳定的ZrO2热障涂层中，Al元素在过渡层上分布均匀，具有较好的抗氧化性能。通过实验，用低压等离子喷涂技术制备了Y2O3-ZrO2/NiCoCrAlY复合热障涂层，并对其进行了800-1000℃的静态氧化试验。
通过低压等离子体处理机对胶层进行喷涂，制备出的热障涂层具有较好的高温抗氧化性能。而且样品在较高温度长期氧化后，粘结层中的铝元素会扩散到陶瓷层/粘结层界面，形成均匀致密的双层氧化铝膜，更有效地保护基体。对三种热障涂层高温氧化行为的研究表明，等离子体热障涂层的氧化过程分为氧吸附、氧在陶瓷层中的扩散、选择氧化生成Al2O3膜、薄膜生长、厚膜生长和厚膜破坏六个阶段，其中铝元素的分布直接影响保护性膜的生长和成熟，进而影响涂层的抗氧化性。