纳米压印设备之热压印:EVG510HE 一、 简介 EVG公司成立于1980年,公司部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。 EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。 目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。 EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的好的公司,可为客户提供完整的纳米压印方案,包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其的极其优异的对准技术和好的的热压技术为纳米压印的实施打下了坚实的基础。 EVG510HE是一款半自动的热压印设备,用于硬模压印和纳米印刷。该热压印系统配备了一个通用的热压腔室,具备高真空和高接触压力能力,可以处理用于热压印的所有聚合物材料。EVG510HE可以实现长宽比的热压印和多重脱模工艺,为客户提供高质量的图形转移和纳米级分辨率。 二、应用范围 纳米压印技术主要应用于如下方面: LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。 二、 主要特点 u 用于聚合物衬底和旋涂树脂的热压印; u 自动化热压印程序; u EVG的单独对准技术用于压印和印刷前对准; u 全程软件控制工艺流程的运行; u 外置热压脱模和冷却台; u 紫外纳米压印可选 四、技术参数 u 印章/衬底尺寸:大对角线长度150mm; u 接触压力:大10KN; u 堆垛厚度:大15mm;
纳米压印设备之热压印:EVG510HE
一、 简介
EVG公司成立于1980年,公司部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。
目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。
EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的好的公司,可为客户提供完整的纳米压印方案,包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其的极其优异的对准技术和好的的热压技术为纳米压印的实施打下了坚实的基础。
EVG510HE是一款半自动的热压印设备,用于硬模压印和纳米印刷。该热压印系统配备了一个通用的热压腔室,具备高真空和高接触压力能力,可以处理用于热压印的所有聚合物材料。EVG510HE可以实现长宽比的热压印和多重脱模工艺,为客户提供高质量的图形转移和纳米级分辨率。
二、应用范围
纳米压印技术主要应用于如下方面:
LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。
二、 主要特点
u 用于聚合物衬底和旋涂树脂的热压印;
u 自动化热压印程序;
u EVG的单独对准技术用于压印和印刷前对准;
u 全程软件控制工艺流程的运行;
u 外置热压脱模和冷却台;
u 紫外纳米压印可选
四、技术参数
u 印章/衬底尺寸:大对角线长度150mm;
u 接触压力:大10KN;
u 堆垛厚度:大15mm;
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纳米压印设备之热压印:EVG510HE
一、 简介
EVG公司成立于1980年,公司部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。
目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。
EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的好的公司,可为客户提供完整的纳米压印方案,包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其的极其优异的对准技术和好的的热压技术为纳米压印的实施打下了坚实的基础。
EVG510HE是一款半自动的热压印设备,用于硬模压印和纳米印刷。该热压印系统配备了一个通用的热压腔室,具备高真空和高接触压力能力,可以处理用于热压印的所有聚合物材料。EVG510HE可以实现长宽比的热压印和多重脱模工艺,为客户提供高质量的图形转移和纳米级分辨率。
二、应用范围
纳米压印技术主要应用于如下方面:
LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。
二、 主要特点
u 用于聚合物衬底和旋涂树脂的热压印;
u 自动化热压印程序;
u EVG的单独对准技术用于压印和印刷前对准;
u 全程软件控制工艺流程的运行;
u 外置热压脱模和冷却台;
u 紫外纳米压印可选
四、技术参数
u 印章/衬底尺寸:大对角线长度150mm;
u 接触压力:大10KN;
u 堆垛厚度:大15mm;