一、膜厚仪产品组成:
(1)测试主机
(2)光纤
(3)校正件
(4)测量头
(5)夹持装置
(6)手提电脑
(7)设备箱
二、膜厚仪产品特点:
(1)采用光谱干涉原理进行测量,具有非接触、无破坏、快速等特点;
(2)可在真空环境使用;
(3)可与大行程工件台配合,实现大面积膜厚自动测量;
三、主要技术指标:
(1)测量范围(VIS):15nm—100μm
(2)测量重复性(RMS):0.086nm
(3)测量*精度(与椭偏仪对比):0.25nm
(4)测量层数:大于3层;
(5)使用光源:卤素灯;
(6)入射角度:90°
(7)测试材料:透明或半透明薄膜材料;
(8)光斑尺寸:20μm—3mm(可选)
(9)测量时间:100ms—4ms
(10)通信接口:USB2.0
武汉月忆神湖科技有限公司简称“武汉月忆",是大陆的一家创*科技公司,部位于九省通衢-湖北武汉。
主营实验室仪器、试剂耗材等,旨在为半导体芯片制造、MEMS、钙钛矿太阳能电池以及微流体芯片制造等领域的广大科研工作者提供*的解决方案和性能优异的产品,在仪器仪表-实验仪器装置行业获得广大客户的认可。
公司秉承“精工品质,用心服务"的经营理念,坚持“以客户服务为中心"的原则为广大客户提供的服务。
“买仪器 选月忆",欢迎您来电垂询!
其他推荐产品
首页| 关于我们| 联系我们| 友情链接| 广告服务| 会员服务| 付款方式| 意见反馈| 法律声明| 服务条款
一、膜厚仪产品组成:
(1)测试主机
(2)光纤
(3)校正件
(4)测量头
(5)夹持装置
(6)手提电脑
(7)设备箱
二、膜厚仪产品特点:
(1)采用光谱干涉原理进行测量,具有非接触、无破坏、快速等特点;
(2)可在真空环境使用;
(3)可与大行程工件台配合,实现大面积膜厚自动测量;
三、主要技术指标:
(1)测量范围(VIS):15nm—100μm
(2)测量重复性(RMS):0.086nm
(3)测量*精度(与椭偏仪对比):0.25nm
(4)测量层数:大于3层;
(5)使用光源:卤素灯;
(6)入射角度:90°
(7)测试材料:透明或半透明薄膜材料;
(8)光斑尺寸:20μm—3mm(可选)
(9)测量时间:100ms—4ms
(10)通信接口:USB2.0
武汉月忆神湖科技有限公司简称“武汉月忆",是大陆的一家创*科技公司,部位于九省通衢-湖北武汉。
主营实验室仪器、试剂耗材等,旨在为半导体芯片制造、MEMS、钙钛矿太阳能电池以及微流体芯片制造等领域的广大科研工作者提供*的解决方案和性能优异的产品,在仪器仪表-实验仪器装置行业获得广大客户的认可。
公司秉承“精工品质,用心服务"的经营理念,坚持“以客户服务为中心"的原则为广大客户提供的服务。
“买仪器 选月忆",欢迎您来电垂询!