倍加福传感器@P+F加速度传感器
NBB10-30GM50-E2 NBB10-30GM50-E2-V1 NBB8-18GM50-E2 NBB15-30GM50-E2 NBN4-12GM50-E0 NBN4-12GM50-E2 NBN15-30GM50-E0 NBN15-30GM50-E2 NBB15-30GM50-WO NBB15-30GM50-WS NBB2-12GM50-E2 NBB4-12GM50-E2 NBB5-18GM50-E0 NBB5-18GM50-E2 NBB5-18GM50-E2-V1 NBB5-18GM40-Z0 NBB20-L2-E2-V1 NBB15-U1-E2 NBB20-U1-E2 NBN40-L2-E2-V1 NBN5-F7-E0 NBN5-F7-E2 NBN8-18GM50-E0 NBN8-18GM50-E2 NBN8-18GM40-Z0 NCB2-12GM35-NO NCB50-FP-A2-P1 NCB50-FP-E2-P1 NCN50-FP-W-P1 CJ10-30GK-E NJ1.5-8GM-N NJ5-18GM-N NJ8-18GM-N NJ20+U1+W NJ5-18GM50-E2-V1 SJ30-A2 ML5-8-400/32/115 OBT200-18GM60-E5
集成传感器薄膜传感器 厚膜传感器陶瓷传感器 集成传感器是用标准的生产硅基半导体集成电路的工艺技术制造的。通常还将用于初步处理被测信号的部分电路也集成在同一芯片上。 薄膜传感器则是通过沉积在介质衬底(基板)上的,相应敏感材料的薄膜形成的。使用混合工艺时,同样可将部分电路制造在此
基板上。 厚膜传感器是利用相应材料的浆料,涂覆在陶瓷基片上制成的,基片通常是Al2O3制成的,然后进行热处理,使厚膜成形。 陶瓷传感器采用标准的陶瓷工艺或其某种变种工艺(溶胶-凝胶等)生产。 完成适当的预备性操作之后,已成形的元件在高温中进行烧结。厚膜和陶瓷传感器这二种工艺之间有许多共同特性,在某些方面,可以认为厚膜工艺是陶瓷工艺的一种变型。 每种工艺技术都有自己的优点和不足。由于研究、开发和生产所需的资本投入较低,以及传感器参数的高稳定性等原因,采用陶瓷和厚膜传感器比较合理。
其他推荐产品
首页| 关于我们| 联系我们| 友情链接| 广告服务| 会员服务| 付款方式| 意见反馈| 法律声明| 服务条款
倍加福传感器@P+F加速度传感器
NBB10-30GM50-E2
NBB10-30GM50-E2-V1
NBB8-18GM50-E2
NBB15-30GM50-E2
NBN4-12GM50-E0
NBN4-12GM50-E2
NBN15-30GM50-E0
NBN15-30GM50-E2
NBB15-30GM50-WO
NBB15-30GM50-WS
NBB2-12GM50-E2
NBB4-12GM50-E2
NBB5-18GM50-E0
NBB5-18GM50-E2
NBB5-18GM50-E2-V1
NBB5-18GM40-Z0
NBB20-L2-E2-V1
NBB15-U1-E2
NBB20-U1-E2
NBN40-L2-E2-V1
NBN5-F7-E0
NBN5-F7-E2
NBN8-18GM50-E0
NBN8-18GM50-E2
NBN8-18GM40-Z0
NCB2-12GM35-NO
NCB50-FP-A2-P1
NCB50-FP-E2-P1
NCN50-FP-W-P1
CJ10-30GK-E
NJ1.5-8GM-N
NJ5-18GM-N
NJ8-18GM-N
NJ20+U1+W
NJ5-18GM50-E2-V1
SJ30-A2
ML5-8-400/32/115
OBT200-18GM60-E5
集成传感器薄膜传感器 厚膜传感器陶瓷传感器 集成传感器是用标准的生产硅基半导体集成电路的工艺技术制造的。通常还将用于初步处理被测信号的部分电路也集成在同一芯片上。 薄膜传感器则是通过沉积在介质衬底(基板)上的,相应敏感材料的薄膜形成的。使用混合工艺时,同样可将部分电路制造在此
基板上。 厚膜传感器是利用相应材料的浆料,涂覆在陶瓷基片上制成的,基片通常是Al2O3制成的,然后进行热处理,使厚膜成形。 陶瓷传感器采用标准的陶瓷工艺或其某种变种工艺(溶胶-凝胶等)生产。 完成适当的预备性操作之后,已成形的元件在高温中进行烧结。厚膜和陶瓷传感器这二种工艺之间有许多共同特性,在某些方面,可以认为厚膜工艺是陶瓷工艺的一种变型。 每种工艺技术都有自己的优点和不足。由于研究、开发和生产所需的资本投入较低,以及传感器参数的高稳定性等原因,采用陶瓷和厚膜传感器比较合理。
倍加福传感器@P+F加速度传感器