特征 是电解抛光或化学抛光无法处理的样品*外层表面抛光的*合适的设备。 它是一种离子研磨设备,也是电解抛光或化学抛光后精加工的理想选择。 它不需要用于离子研磨的特殊样品制备(通过薄切片机等进行切片制备)。 与FIB设备相比具有优异的。 基本规格 离子源 方法 冷阴极笔装置 加速电压 2-8kV(1kV级) 束流 高达 150 μA 光束直径 φ4mm 光束对准 导向治具 铣削率 *50nm/min(8kV/Si衬底) 工作气体 Ar气(99.9%以上) 带针阀的手动型 腔室部分 内径 φ160 毫米 x 深度 140 毫米 样本量 * φ50mm / t20.5mm 用于 嵌入树脂 φ32mm / t17.5mm(使用支架) 样品台 高度 0 至 10 mm 可变(安装样品时调整) 偏心 * ± 4 mm(安装样品时调整) 倾斜 0°/60°/80°3档 转速 大约 15 rpm(固定) 真空泵 TMP 67L / 秒 (@ N 2 ) 反相 20升/分钟 安装 尺寸 身体 280 (W) / 320 (D) / 460 (H) 毫米 反相 156 (W) / 296 (D) / 200 (H) 毫米 重量 身体 约30公斤 反相 约10公斤 需要 电源 单相 100V 50 / 60Hz 10A 带 GND 3 极插头规格
特征
基本规格
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特征
基本规格
带针阀的手动型
嵌入树脂 φ32mm / t17.5mm(使用支架)
电源
带 GND 3 极插头规格