PSDP-UVT 内置加热盘系列: PSDP-UVT 新增加一个加热盘,将PSDP-UV的能力提升到了新的水平,使其能***化的分解有机分子物质。带PID反馈回路的数字控制器能**保持热盘的温度,温度范围可达150摄氏度。 选项:OES-1000D臭氧消除系统(内置真空泵和催化型臭氧中和器,用于清洗完成后的臭氧消除) ?数字控制加热盘可以设置高达150摄氏度 ?可调节托盘高度 ?安全开关防止使用者被紫外光照射 ?可编程数字控制器 ?数字显示倒计时 ?可执行暂停和终止指令 ?内部存储器用于记录之前的参数设置 ?高利用率和高灵活性 ?室温操作,使用空气或是氧气 一般特性: 电源:100.120.20.240VAC.50-60周期。 样品高度:所有系统都配置可调节高度的样品台,调节灯与样品之间的间距,并带位置锁定,标准样品台尺寸为UV格栅灯大小或更大。 UV格栅灯:产生臭氧的低压汞格栅灯,带反射罩。灯管寿命大约为5000小时。 UV反射罩:UV反射罩一般比UV格栅灯大一英寸。比如4×4英寸灯管反射罩尺寸是5×5英寸。 样品放置:打开清洗腔上盖,露出样品台,允许360度装入样品。 安全装置:当清洗腔打开时,系统安全锁会关掉UV灯。 进出气口:标准配置2个气接口,可选更多。 真空反应腔:选项客户化定制,铝或石英材料。 温度范围:高达150摄氏度。 臭氧中和器:中和器和泵用于臭氧排除。(PSD和PSDP选项) 工作原理: PSDP-UVT系列产品通过产生185nm和254nm高强度UV光分解有机分子(污染物)。185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的O3臭氧分子。254nm的光同时激发表面的有机分子,使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短并且同时也被254nm光分解,样品台可以调节样品到灯管的距离来优化性能。PSD和PSDP分解有机污染物,然后形成CO2和H2O蒸气,同时也将臭氧分子转变成氧分子。 典型应用包括: •表面的原子级清洗 •聚合物粘接 •去除有机分子 •释放捕获的无机分子 •微流控制作 •微米/纳米构型 •紫外光固化 •表面化学改性 •表面杀菌 •表面氧化 •金属粘结准备……
2019/11/22
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PSDP-UVT 内置加热盘系列:
PSDP-UVT 新增加一个加热盘,将PSDP-UV的能力提升到了新的水平,使其能***化的分解有机分子物质。带PID反馈回路的数字控制器能**保持热盘的温度,温度范围可达150摄氏度。
选项:OES-1000D臭氧消除系统(内置真空泵和催化型臭氧中和器,用于清洗完成后的臭氧消除)
?数字控制加热盘可以设置高达150摄氏度
?可调节托盘高度
?安全开关防止使用者被紫外光照射
?可编程数字控制器
?数字显示倒计时
?可执行暂停和终止指令
?内部存储器用于记录之前的参数设置
?高利用率和高灵活性
?室温操作,使用空气或是氧气
一般特性:
电源:100.120.20.240VAC.50-60周期。
样品高度:所有系统都配置可调节高度的样品台,调节灯与样品之间的间距,并带位置锁定,标准样品台尺寸为UV格栅灯大小或更大。
UV格栅灯:产生臭氧的低压汞格栅灯,带反射罩。灯管寿命大约为5000小时。
UV反射罩:UV反射罩一般比UV格栅灯大一英寸。比如4×4英寸灯管反射罩尺寸是5×5英寸。
样品放置:打开清洗腔上盖,露出样品台,允许360度装入样品。
安全装置:当清洗腔打开时,系统安全锁会关掉UV灯。
进出气口:标准配置2个气接口,可选更多。
真空反应腔:选项客户化定制,铝或石英材料。
温度范围:高达150摄氏度。
臭氧中和器:中和器和泵用于臭氧排除。(PSD和PSDP选项)
工作原理:
PSDP-UVT系列产品通过产生185nm和254nm高强度UV光分解有机分子(污染物)。185nm的光可以将氧分子O2转变成活性的O3臭氧分子。254nm的光同时激发表面的有机分子,使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在时间短并且同时也被254nm光分解,样品台可以调节样品到灯管的距离来优化性能。PSD和PSDP分解有机污染物,然后形成CO2和H2O蒸气,同时也将臭氧分子转变成氧分子。
典型应用包括:
•表面的原子级清洗
•聚合物粘接
•去除有机分子
•释放捕获的无机分子
•微流控制作
•微米/纳米构型
•紫外光固化
•表面化学改性
•表面杀菌
•表面氧化
•金属粘结准备……
2019/11/22