W5型全谱直读光谱仪,可快速的对金属材料样品进行元素测定。光学系统采用CMOS检测器,光谱范围覆盖全部典型材料。无论从低含量元素还是到高含量的元素,它都能准确、可靠的分析。公司在行业内拥有光谱多年的生产经验积累,针对不同材料、不同要求,设计了这款全新的、更具的全谱直读光谱仪,可满足金属制造业、加工业及金属冶炼用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的应用。
技术优势
一:性能优越的光学系统
帕邢-龙格结构凹面光栅,全谱覆盖,满足客户对全元素检测的需求。
直射式光学技术及采用MgF材料制作的光学器件,保证紫外区域的*性能。
高分辩率多COMS读出系统,更低的暗电流,更好的检出限,更高的稳定性,更强的灵敏度,满足N的分析要求。
二:智能数字激发光源
全数字化智能复合光源DDD技术,带来优越分析性能。
紧凑的设计及半导体控制技术,使得光源具有更好的稳定性、更强的可靠性。
高能预燃技术(HEPS),激发参数调整,充分满足不同基体、不同样品以及不同分析元素的激发要求。
三:智能样品激发台设计
四:智能集成气路模块
智能氩气流设计及粉尘收集清理装置
的氩气喷射技术,有效消除激发过程中等离子体的飘移,确保CCD检测器能够观测高温区域光信号,提高精度和稳定性。
激发后,脉冲式氩气吹扫,提高粉尘去除效果,提升仪器的短期和长期稳定性。
五:智能真空测量和控制
真空系统完全程控,在保证真空度的同时减少真空泵的运行时间,
双级设置,在仪器不运行的情况下,开启待机真空运行状态。
多级真空隔离措施及增加滤油装置,保障光学元器件在可靠的环境中工作。
七:计算机及读出系统
计算机与手机(或PAD)可同步显示,方便面板操作。
数据可远程传输,全面实现网络化。实时方便对仪器运行状态的监测和控制。
八:光谱分析软件
国际光谱仪制作标准的光谱仪软件,操作界面人性化,功能标准化。
仪器在软件中配备多条工厂校正曲线及更多材质分析方法和*的解决方案。
可根据用户的材料要求,可现场延长标准曲线的测量上、下限。
技术参数
项目
指标
检测基体
铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基、锰基、铬基等13个基体
光学系统
帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围
165~580nm(可安装上下限检测器扩大波长范围)
光栅焦距
400mm
探 测 器
高分辩率多CMOS图像传感器
光源类型
DDD数字激发光源,高能预燃技术(HEPS)
放电频率
100-1000Hz
放电电流
*400A
检测时间
依据样品类型而定,一般在25s左右
电极类型
钨材喷射电极
分析间隙
样品台分析间隙:3.4mm
真空系统
真空软件自动控制、监测
光室恒温
34℃,温度自动监测
氩气纯度
99.999%
氩气压力
0.5MPa
工作电源
AC220V 50/60Hz
仪器尺寸
860*680*438mm
仪器重量
约100kg
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四川国产台式全谱直读光谱仪金义博W5型
产品介绍
W5型全谱直读光谱仪,可快速的对金属材料样品进行元素测定。光学系统采用CMOS检测器,光谱范围覆盖全部典型材料。无论从低含量元素还是到高含量的元素,它都能准确、可靠的分析。公司在行业内拥有光谱多年的生产经验积累,针对不同材料、不同要求,设计了这款全新的、更具的全谱直读光谱仪,可满足金属制造业、加工业及金属冶炼用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的应用。
技术优势
一:性能优越的光学系统
帕邢-龙格结构凹面光栅,全谱覆盖,满足客户对全元素检测的需求。
直射式光学技术及采用MgF材料制作的光学器件,保证紫外区域的*性能。
高分辩率多COMS读出系统,更低的暗电流,更好的检出限,更高的稳定性,更强的灵敏度,满足N的分析要求。
二:智能数字激发光源
全数字化智能复合光源DDD技术,带来优越分析性能。
紧凑的设计及半导体控制技术,使得光源具有更好的稳定性、更强的可靠性。
高能预燃技术(HEPS),激发参数调整,充分满足不同基体、不同样品以及不同分析元素的激发要求。
三:智能样品激发台设计
四:智能集成气路模块
智能氩气流设计及粉尘收集清理装置
的氩气喷射技术,有效消除激发过程中等离子体的飘移,确保CCD检测器能够观测高温区域光信号,提高精度和稳定性。
激发后,脉冲式氩气吹扫,提高粉尘去除效果,提升仪器的短期和长期稳定性。
五:智能真空测量和控制
真空系统完全程控,在保证真空度的同时减少真空泵的运行时间,
双级设置,在仪器不运行的情况下,开启待机真空运行状态。
多级真空隔离措施及增加滤油装置,保障光学元器件在可靠的环境中工作。
六:透镜清理装置
七:计算机及读出系统
计算机与手机(或PAD)可同步显示,方便面板操作。
数据可远程传输,全面实现网络化。实时方便对仪器运行状态的监测和控制。
八:光谱分析软件
国际光谱仪制作标准的光谱仪软件,操作界面人性化,功能标准化。
仪器在软件中配备多条工厂校正曲线及更多材质分析方法和*的解决方案。
可根据用户的材料要求,可现场延长标准曲线的测量上、下限。
技术参数
项目
指标
检测基体
铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基、锰基、铬基等13个基体
光学系统
帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围
165~580nm(可安装上下限检测器扩大波长范围)
光栅焦距
400mm
探 测 器
高分辩率多CMOS图像传感器
光源类型
DDD数字激发光源,高能预燃技术(HEPS)
放电频率
100-1000Hz
放电电流
*400A
检测时间
依据样品类型而定,一般在25s左右
电极类型
钨材喷射电极
分析间隙
样品台分析间隙:3.4mm
真空系统
真空软件自动控制、监测
光室恒温
34℃,温度自动监测
氩气纯度
99.999%
氩气压力
0.5MPa
工作电源
AC220V 50/60Hz
仪器尺寸
860*680*438mm
仪器重量
约100kg