北崎供应EBARA 荏原 G5-600 P1-P4 燃烧式废气处理器
北崎供应EBARA 荏原 G5-600 P1-P4 燃烧式废气处理器
G5 是一种燃烧式废气处理系统，能够高效处理制造过程中使用的各种气体。 可以一次处理多种气体，并且可以高效处理通常难以处理的 PFC 气体。 通过我们的副产品对策和根据要处理的气体类型和数量按需（可变燃料供应）作来降低运行成本。 它非常适合用于半导体、液晶面板、太阳能电池和 LED 等电子元件的制造、化学和材料制造商以及各种实验室。 还提供*流量为 1,200 L/min 的大流量型。
| 型 | 单位 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
| 加工方法 | 燃烧 + 湿式 | 燃烧 + 湿式 | 燃烧 + 湿式 | 燃烧 + 湿式 | |
| *进气量 | 升/分钟 | 350 | 500 | 600 | 1200 |
| 燃料 | 城市燃气/丙烷气选择 | 城市燃气/丙烷气选择 | 城市燃气/丙烷气选择 | 城市燃气/丙烷气选择 | |
| 大小 | 宽 x 深 x 高 mm | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
| 可处理气体示例 |
工艺（库）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清洁气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蚀 刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 |
工艺（库）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清洁气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蚀 刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 |
工艺（库）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清洁气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蚀 刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 |
工艺（库）气体 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清洁气体 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蚀 刻气体 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 |
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| 标准设备 | 除粉 vernas 刮刀 | 除粉 vernas 刮刀 | 除粉 vernas 刮刀 | 除粉 vernas 刮刀 | |
| 选择 | 市政水和废水消耗减少装置 | 市政水和废水消耗减少装置 | 市政水和废水消耗减少装置 | 市政水和废水消耗减少装置 | |
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