日立高分辨率扫描电子显微镜S-5500

高分辨率的显微分析对设备有特殊的要求，以便可以得到新的信息及展现纳米世界的秘密。 
新的S-5500完全可以满足这些需要。

技术参数：

技术指标： 
二次电子成像分辨率： 0.4nm (30kV) ；1.6nm (1kV) 
加速电压： 0.5~30kV 
放大倍率： 60X ~ 10000X (低倍模式) ； 
800~2000000X(高倍模式) 
电子光学 
电子枪： 冷场发射电子源 
透镜系统： 3级电磁透镜系统 
物镜光栏： 可变型 (4孔可选，在真空系统外进行微 
调，100-50-50-30um) 
消像散线圈： 八极电磁线圈系统 
扫描线圈： 2级电磁偏转线圈(高倍模式) ；1级电磁 
线圈(低倍模式) 
电子束遮挡： 静电型(与扫描线圈同步) 
样品台： 侧插式测角台 
样品台移动： X：±3.5mm Y: ±2.0mm; Z: ±0.3mm 
T: ±40° 
样品尺寸： 大5.0mmx9.5mmx3.5mmH (Bulk) 
大2.0mmx6.0mmx5.0mmH (Cross-section) 
电子图像移动： ±5um (样品高度=0mm) 
检测器： 二次电子检测器 
上部背散射电子检测器(可选) 
YAG型背散射电子检测器(可选) 
BF/DF 双STEM检测器(可选) 
STEM检测器(可选) 
X射线能谱仪 (可选) 
显示系统： 操作系统：Windows XP 
显示器：19?LCD 
图像显示模式：1280x960 (全屏模式) 

640x480 及320x320 (选区显示) 

640x480x2 (双图像显示)

主要特点：

 S-5500的设计可以保证0.4nm的高分辨率，从而获得新的信息并展现纳米世界的秘密。 

1. 的物镜设计可以使其达到世界高分辨率：0.4nm(30kV)。 

2. 保证分辨率为0.4nm (30kV) 1.6nm (1kV) 

3. Hitachi的技术ExB可以让操作者优化图像中SE和BSE信号的比例 

4. 新开发的BF/DF双STEM检测器可以同时显示BF像及DF像。在DF STEM模式中还可以改变检测角度。(可选) 

5. 电子光学系统的改进可以不用改变样品位置而同时进行EDS分析及形貌观察。 

6. 可以使用与FIB兼容的样品杆。